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半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備及其噴淋裝置和使用方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40571174

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備,尤其涉及一種半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備及其噴淋裝置和使用方法。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備中,當(dāng)對(duì)基體表面進(jìn)行鍍膜時(shí),至少需要兩種反應(yīng)氣體通過(guò)噴淋裝置交替進(jìn)入反應(yīng)室然后在基體表面分別發(fā)生反應(yīng),即化學(xué)吸附反應(yīng)和表面化學(xué)反應(yīng)而形成薄膜,為保證薄膜的均勻性和成膜質(zhì)量,噴淋裝置的內(nèi)部采用多層結(jié)構(gòu)來(lái)形成兩個(gè)互相隔離的氣體通道,氣體分配室沿著噴淋裝置正方向剖面的形狀是長(zhǎng)方形,由于氣體通道中的氣體流通方向與氣體分配室中氣體擴(kuò)散的方向?yàn)橹苯?,這樣會(huì)導(dǎo)致氣體在氣體分配室的流通不太順暢,進(jìn)而導(dǎo)致氣體無(wú)...
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