技術(shù)編號：40544611
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及電子元器件，特別涉及一種低維材料場效應晶體管表面柵介質(zhì)層的制備工藝。背景技術(shù)、集成電路是一種微型電子器件或部件；柵介質(zhì)層是?集成電路中的一個重要組成部分，位于柵極和?溝道之間；柵介質(zhì)層在集成電路中的主要功能是控制溝道中的電流流動，從而實現(xiàn)對?晶體管的開關(guān)控制。、隨著g、ai、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的興起，集成電路行業(yè)也迎來了新的發(fā)展機遇，集成電路的制造工藝技術(shù)也隨之不斷發(fā)展,市場規(guī)模持續(xù)擴大。為了提高集成電路的集成度、提升器件的工作速度并降低功耗，集成電路器件的特征尺寸不斷微縮；柵介質(zhì)...
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