技術(shù)編號:40539395
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明實施例涉及半導體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種半導體結(jié)構(gòu)及其形成方法。背景技術(shù)、隨著半導體制造技術(shù)的飛速發(fā)展,半導體器件朝著更高的元件密度、更高集成度的方向發(fā)展,半導體工藝節(jié)點遵循摩爾定律的發(fā)展不斷減小。晶體管尺寸越來越小,鰭式場效應(yīng)三極管(field-effect?transistor,finfet)應(yīng)運而生。但是要保持原有的驅(qū)動電流性能,這種結(jié)構(gòu)不再適用于較小的節(jié)點。于是出現(xiàn)了全包圍柵極晶體管(gate-all-around,gaafet),它對短溝道效應(yīng)的控制和優(yōu)越的電學性能,使其在更小的...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。