技術(shù)編號：40439014
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及半導(dǎo)體，尤其涉及一種用于環(huán)形工件的測量裝置。背景技術(shù)、化學(xué)氣相沉積(chemical?vapor?deposition，cvd)是一種材料表面處理技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、涂層和納米技術(shù)等領(lǐng)域。化學(xué)氣相沉積主要用于在基材表面沉積薄膜，通過控制反應(yīng)過程，在高溫和低壓條件下，形成均勻、致密和純凈的薄膜材料。、在化學(xué)氣相沉積過程中，基材由支撐件支撐在反應(yīng)腔室內(nèi)。使用專用的支撐件對基材進(jìn)行支撐具有重要的作用。支撐件不僅能確?；谋环€(wěn)定地支撐在反應(yīng)腔室中的正確位置，還能提高沉積過程的均勻...
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