技術(shù)編號：3784028
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種活性納米級單晶二氧化硅，其特征在于，單晶二氧化硅的加工過程為1）粗曠篩選，水性環(huán)境，水洗、酸洗、中和處理PH值控制在4～10，去處礦石表面雜質(zhì)單晶粗粉碎，2）干式粉碎，線速度6m/s～25m/s,空氣壓力2～18公斤；3）單晶分級工藝，干式分級單晶精研磨工藝；4）濕法粉碎，中性水性環(huán)境，不破壞單晶形貌的條件下進行分散處理納米級研磨，對顆粒進行最終細度加工，使其達到納米級10～800納米，使其比表面積最大化，以達到易分散效果納米級顆粒成型加工，最終顆粒外...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。