技術(shù)編號(hào)：3776122
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種向例如半導(dǎo)體晶片等基板上涂敷含有有機(jī)溶劑的 涂敷液的涂敷處理方法、程序、計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)和涂敷處理裝置。背景技術(shù)例如，在半導(dǎo)體裝置的制造過程中的光刻工序中，依次進(jìn)行例如 在半導(dǎo)體晶片(以下稱為"晶片")上涂敷抗蝕劑液形成抗蝕劑膜的抗 蝕劑涂敷處理，將抗蝕劑膜曝光成規(guī)定圖案的曝光處理，和使曝光的 抗蝕劑膜顯影的顯影處理等，從而在晶片上形成規(guī)定的抗蝕劑圖案。在上述的抗蝕劑涂敷處理中，廣泛采用所謂的旋轉(zhuǎn)涂敷法，即， 從噴嘴向旋轉(zhuǎn)中的晶片的表面上的中心...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。