技術(shù)編號:3441328
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種制備單壁碳納米管的組合裝置,主要包括有電弧真空放電裝 置,屬納米材料制造裝置。背景技術(shù)自1991年發(fā)現(xiàn)多壁碳納米管(MWCNTs)和1993年發(fā)現(xiàn)單壁碳納米管 (SWCNTs)以后,制備碳納米管的方法主要有電弧放電法、激光蒸發(fā)法和化學氣相沉積法(CVD)。目前報道中,激光蒸發(fā)法能制備出高純、高結(jié)晶性單壁碳納米管,但是 設(shè)備成本高;CVD法設(shè)備簡單,可以大批量制備碳納米管,但是制備的碳納米管結(jié)晶性 差,使得碳納米管的很多優(yōu)點無法顯示出來。目前電...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。