技術(shù)編號(hào):3426768
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)化學(xué)氣相沉積是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù),可制備包括陶瓷、難熔金屬等在內(nèi)的結(jié)構(gòu)或功能薄膜,在冶金、機(jī)械、航空航天、核、能源等領(lǐng)域有著廣泛地應(yīng)用?;瘜W(xué)氣相沉積是通過沉積物的氣相前驅(qū)體的化學(xué)反應(yīng)生成,因?yàn)橛袣庀噙B續(xù)供給,所以一般選擇直筒式反應(yīng)器,需要沉積工件放置在反應(yīng)器高溫處,反應(yīng)氣體從工件一端對(duì)應(yīng)的反應(yīng)器進(jìn)氣口進(jìn)入,在高溫區(qū)反應(yīng)生成固相產(chǎn)物和氣相尾氣,固相產(chǎn)物沉積在工件表面,氣相尾氣從工件另一端對(duì)應(yīng)的反應(yīng)器排氣口排出。一般的化學(xué)氣相沉積技...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。