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技術(shù)編號(hào)：3424517

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本發(fā)明涉及。背景技術(shù)作為一般的使薄膜成膜的方法之一周知有濺射法。所謂濺射法是通過對濺射靶進(jìn)行濺射得到薄膜的方法，由于大面積化容易、可以高效率地使高性能的膜成膜，所以被用于工業(yè)。另外，近年作為濺射的方式還周知有在反應(yīng)性氣體中進(jìn)行濺射的反應(yīng)性濺射法、和在靶的背面設(shè)置磁鐵而謀求薄膜形成高速化的磁控管濺射法等。在這樣的濺射法中所用的薄膜中，特別是氧化銦-氧化錫(ln203-Sn02的復(fù)合氧化物，以下稱為"ITO")膜，由于其可見光透射性高而且導(dǎo)電性高，所以作為透明...
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