技術(shù)編號：3419156
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及從含有作為廢棄物的釕的廢料中簡易地回收釕的方法。 背景技術(shù)釕通過在硬盤的記錄層之間夾有數(shù)原子的釕層而具有增加記錄容量 的效果。釕層的形成采用濺射法。在將釕加工到濺射用的靶材上時，會產(chǎn)生切削屑和研磨屑。另外，濺射用的靶材通常僅使用總體的20 40%，原 料的大半成為廢料。因此，為了有效地活用作為貴金屬的釕，回收釕而加以再的技術(shù)的確 立不可或缺。但是，由于釕其熔點(diǎn)高達(dá)225(TC，以及難以由酸和堿溶解， 因此從廢料中分離困難。另外，為了用于濺射的靶材...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。