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技術(shù)編號(hào)：3418594

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本發(fā)明涉及一種在等離子環(huán)境中使用金屬氨基化物、硅前體和氮源氣體作 為前體按照循環(huán)膜沉積形成氮化金屬硅膜的方法。技術(shù)背景相變記憶(PRAM)器件使用了能夠在無(wú)定形和結(jié)晶態(tài)之間電轉(zhuǎn)換的相變 材料。適合于這種應(yīng)用的典型材料包括多種硫族化物元素例如鍺、銻和碲。為 了引發(fā)相變，硫族化物材料應(yīng)當(dāng)使用加熱器加熱。存在許多潛在的加熱材料比 如氮化鈦(TiN)、氮化鈦鋁(TiAlN)、氮化鈦硅(TiSiN)、氮化鉭硅(TaSiN)制備這些膜的廣泛研究的沉積方法為物理氣相沉積...
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