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用于扁平工件的雙面處理的裝置和用于多個(gè)半導(dǎo)體晶片的同時(shí)雙面材料去除處理的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3417886

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本發(fā)明涉及一種用于扁平工件的雙面處理的裝置,包括上工作盤和下工作盤, 其中,工作盤中的至少一個(gè)工作盤可借助于驅(qū)動(dòng)部件以轉(zhuǎn)動(dòng)方式被驅(qū)動(dòng),工作盤在它們自身之間形成工作間隙,至少一個(gè)承載盤設(shè)置在所述工作間隙中,且具有用于至少一個(gè)要被處理的工件的至少一個(gè)缺口,且所述至少一個(gè)承載盤在其圓周上具有齒,如果齒輪 (Zahnkranz)或銷環(huán)中的至少一個(gè)被使得轉(zhuǎn)動(dòng),則所述承載盤借助于所述齒在內(nèi)、外齒輪或銷環(huán)上滾動(dòng),其中齒輪或銷環(huán)分別具有多個(gè)輪齒結(jié)構(gòu)或銷結(jié)構(gòu),承載盤的齒在滾...
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