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靶冷卻裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3411182

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本發(fā)明涉及激光沉積裝置,包括至少一個(gè)靶、與所述至少一個(gè)靶相對(duì)布置的基底以及用于產(chǎn)生激光束的激光器,所述激光束指到所述靶上,使得靶材的等離子體羽流 (plume)被產(chǎn)生并且沉積到所述基底上。背景知識(shí)激光沉積,特別是脈沖激光沉積(PLD)是用于將覆層布置在目標(biāo)上的已知技術(shù)。 通過(guò)該技術(shù),靶材的材料被激光燒蝕,使得該靶材的等離子體羽流被產(chǎn)生。該等離子體羽流隨后沉積到基底上,從而導(dǎo)致在基底上的靶材的覆層。PLD首先開(kāi)發(fā)用于涂覆小尺寸基底表面,典型地為10毫米乘10...
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