技術(shù)編號(hào):3411182
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及激光沉積裝置,包括至少一個(gè)靶、與所述至少一個(gè)靶相對(duì)布置的基底以及用于產(chǎn)生激光束的激光器,所述激光束指到所述靶上,使得靶材的等離子體羽流 (plume)被產(chǎn)生并且沉積到所述基底上。背景知識(shí)激光沉積,特別是脈沖激光沉積(PLD)是用于將覆層布置在目標(biāo)上的已知技術(shù)。 通過(guò)該技術(shù),靶材的材料被激光燒蝕,使得該靶材的等離子體羽流被產(chǎn)生。該等離子體羽流隨后沉積到基底上,從而導(dǎo)致在基底上的靶材的覆層。PLD首先開(kāi)發(fā)用于涂覆小尺寸基底表面,典型地為10毫米乘10...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。