技術(shù)編號(hào)：3410563
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造和微機(jī)械加工中的許多工藝步驟需要以受控且精確的方式在表面上沉積金屬薄膜。在OLED技術(shù)中，薄導(dǎo)電膜-也稱為互連-覆蓋襯底的整個(gè)表面的約10%。一種用于沉積薄金屬膜的方法在襯底表面之上利用有機(jī)金屬氣體的激光-熱或光-分解。這種連續(xù)的激光-熱方法當(dāng)前用于一些金屬化應(yīng)用，然而，實(shí)踐中它經(jīng)受至少三個(gè)不利條件。首先，在襯底之上以氣相產(chǎn)生的金屬原子傾向于遠(yuǎn)離分解區(qū)域而遍布在表面上。第二，所述工藝相對(duì)較慢。第三，僅僅可以使用具有合適...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。