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技術(shù)編號：3403093

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本發(fā)明涉及襯底加工方法，并且特別是涉及用于拋光和平整化諸如半導(dǎo)體晶片的襯底的。背景技術(shù) 一些用于拋光和平整化諸如半導(dǎo)體晶片的襯底(或基片)的拋光設(shè)備可以調(diào)節(jié)托架頭中的腔室壓力。這種拋光設(shè)備測量與襯底的薄膜厚度相關(guān)的物理量并根據(jù)該物理量計算薄膜厚度輪廓。然后，該拋光設(shè)備根據(jù)所計算的薄膜厚度輪廓和期望的薄膜厚度輪廓之間的比較調(diào)節(jié)托架頭中的腔室壓力。但是，傳統(tǒng)的拋光設(shè)備不執(zhí)行其中托架頭中的腔室壓力在拋光期間連續(xù)調(diào)節(jié)的實時控制。當然，實時控制有望獲得更接近期望厚度...
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