技術(shù)編號：3402778
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及拋光裝置和襯底處理裝置，并且更特別涉及一種拋光裝置和一種具有這種拋光裝置的襯底處理裝置，其中該拋光裝置用于消除在襯底，例如半導(dǎo)體晶片的外圍部分(傾斜部分和邊緣部分)處產(chǎn)生的表面粗糙度，或者用于去除形成于襯底外圍部分上面的膜。背景技術(shù) 近年來，隨著半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)越來越精密并且集成度越來越高，處理顆粒變得越來越重要。處理顆粒方面的一個主要問題是在半導(dǎo)體器件的制作過程中，在半導(dǎo)體晶片(襯底)的傾斜部分和邊緣部分處產(chǎn)生的表面粗糙度引起的粉塵。在這種情況...
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