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Al基金屬層的刻蝕方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3397148

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置的制造方法,更詳細(xì)地說(shuō),涉及包含以Al或Al合金等的鋁為基體材料的布線層的干法刻蝕技術(shù)。近些年來(lái),為了得到低電阻值且具有良好的接觸性以及抗電遷徙能力,使用對(duì)Al或Al合金膜與金屬勢(shì)壘層進(jìn)行疊層后的、附圖說(shuō)明圖1所示構(gòu)造的布線層。布線層10形成于半導(dǎo)體襯底11上,該布線層10用Ti膜12,TiN膜13,Al或Al合金膜14,Ti膜15及TiN膜16的疊層膜構(gòu)成。在上述布線構(gòu)造中,由作為布線基體材料所使用的是Al或Al合金膜14,故可以得到...
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