技術編號：3373778
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種，特別是涉及這樣一種，該方法包括磁盤加工，研磨，拋光和清洗步驟，同時在研磨過程中能夠抑制例如鐵離子和/或磨料粒對玻璃基底的沾污，從而容易和高效地形成其雜質(zhì)被很好控制的磁記錄介質(zhì)用玻璃基底。隨著磁盤記錄裝置的存儲容量顯著提高，人們一直希望減小磁盤記錄裝置的磁頭浮動高度，從而提高磁記錄盤的記錄密度。為減少磁頭的浮動高度，人們希望開發(fā)出一種磁記錄介質(zhì)用基底，其表面平滑度非常優(yōu)異，在其表面上僅有少量的沉積和很少量的表面缺陷。由于普通的磁記錄介質(zhì)用基底...
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