技術(shù)編號(hào):3372190
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空技術(shù),是一種特別適用于半導(dǎo)體襯底晶體材料藍(lán)寶石生長(zhǎng)的真空系統(tǒng)。綜上所述,我國(guó)目前的晶體生長(zhǎng)真空系統(tǒng)難以適用于半導(dǎo)體襯底晶體材料生長(zhǎng)工藝的需要,難以生產(chǎn)出高品質(zhì)的半導(dǎo)體材料,不能適應(yīng)飛速發(fā)展的計(jì)算機(jī)技術(shù)對(duì)半導(dǎo)體材料的高品質(zhì)性能要求。實(shí)現(xiàn)上述目的的技術(shù)方案一種適用于半導(dǎo)體襯底晶體材料生長(zhǎng)的真空系統(tǒng),包括晶體生長(zhǎng)真空室和高真空系統(tǒng),所述高真空系統(tǒng)包括用于抽真空的直聯(lián)旋葉式機(jī)械泵、鈦離子泵和冷卻阱,直聯(lián)旋葉式機(jī)械泵經(jīng)預(yù)真空閥門(mén)、真空管道接鈦離子泵,鈦...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。