技術編號：3371763
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及真空鍍膜技術，特別涉及一種磁控濺射靶屏蔽裝置。 背景技術目前，磁控濺射鍍膜機濺射靶結構由早期的平面靶結構逐漸向柱狀旋轉靶結構方 向發(fā)展，并形成了多種柱狀磁控濺射靶結構。柱狀濺射靶的實現(xiàn)，大幅度提高了靶材利用 率，同時使靶的結構也更加簡單、可靠。如中華人民共和國專利CN200510021648. 8提到的 一種旋轉磁場平面靶磁控濺射裝置，以及中華人民共和國專利CN200610062227. 4提到的 柱狀磁控濺射器，均采用了不同形式的柱狀靶結構...
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