技術(shù)編號：3364640
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工藝，更具體地，本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造工藝中，采用光刻工藝在晶圓上形成所需的各種圖案。光刻工藝大致包括以下8個步驟清洗、脫水和晶圓表面成底膜處理；旋轉(zhuǎn)涂膠；烘烤處理；對準(zhǔn)和曝光處理；曝光后烘焙；顯影處理；堅膜烘焙和顯影后檢查。顯影處理是利用化學(xué)顯影液對由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域進(jìn)行溶解，其主要目的是把掩膜版圖形準(zhǔn)確復(fù)制到光刻膠中。實施顯影處理的裝置包括用于支撐待顯影處理的晶圓的旋轉(zhuǎn)卡盤；將顯影液噴涂到晶圓上的噴頭；以及...
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