技術(shù)編號(hào)：3351408
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于表面防護(hù)的離子束輔助磁控濺射沉積裝置及方法。 背景技術(shù)隨著表面改性和薄膜制備技術(shù)的發(fā)展及F1趨成熟，采用多種處理方法相結(jié)合制備具 有優(yōu)異新特性的薄膜閂益受到關(guān)注。近年來(lái)，將離子束濺射和高能磁控濺射相結(jié)合進(jìn)行 工件表面防護(hù)鍍膜的復(fù)合裝置已經(jīng)開發(fā)，例如公開號(hào)為CN 26卯417(專利號(hào)為ZL 03211547.4)的中國(guó)實(shí)用新型專利就公布了一種平面離子源增強(qiáng)沉積鍍膜機(jī)，包括真空系 統(tǒng)、工件傳動(dòng)裝置和蒸發(fā)源，其特征在于，還包括平面離子源和平面離子源...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。