技術(shù)編號：3350947
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及等離子體處理裝置。在下部電極側(cè)面和處理容器的內(nèi)壁面之間安裝排氣環(huán)，以便圍繞下部電極的周圍。通過該排氣環(huán)，處理容器內(nèi)分離為配置被處理體的處理空間和與排氣機構(gòu)連通的排氣路徑。此外，在排氣環(huán)上形成多個貫通孔，通過該貫通孔連通處理空間和排氣路徑。因此，由于在處理時，處理空間內(nèi)的氣體經(jīng)貫通孔被排氣路徑導(dǎo)向，所以處理空間內(nèi)和排氣路徑內(nèi)的電導(dǎo)維持在規(guī)定的狀態(tài)，可以對處理空間內(nèi)穩(wěn)定地排氣。等離子體在被前述處理空間封閉的同時，通過保持接地電位的處理容器內(nèi)壁面及排氣...
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