技術(shù)編號(hào)：3326713
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種石墨盤，尤其是一種改善內(nèi)圈波長均勻性及拉近各圈波長均值的石墨盤，屬于MOCVD用石墨盤的。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案，所述改善內(nèi)圈波長均勻性及拉近各圈波長均值的石墨盤，包括盤體及設(shè)置于所述盤體內(nèi)若干均勻分布的凹盤位；所述凹盤位包括內(nèi)圈盤位及位于所述內(nèi)圈盤位外圈的外圈盤位；所述內(nèi)圈盤位及外圈盤位均包括第一臺(tái)階、位于第一臺(tái)階下方的第二臺(tái)階及位于第二臺(tái)階下方的弧形底；所述內(nèi)圈盤位第二臺(tái)階的高度為40~100μm，所述外圈盤位的第二臺(tái)階的高度比...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。