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技術(shù)編號：3301886

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本實(shí)用新型涉及具有陽極殼體的磁控管濺射刻蝕設(shè)備。本實(shí)用新型涉及一種用于借助濺射工藝進(jìn)行刻蝕的設(shè)備，并且尤其是涉及一種這樣構(gòu)造的陽極殼體，其妨礙刻蝕引起的等離子體離開殼體。這種設(shè)備的應(yīng)用例如適合于在真空中對如金屬帶之類的襯底進(jìn)行預(yù)處理，為此表明一種設(shè)施。根據(jù)克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)的目標(biāo)，本實(shí)用新型的任務(wù)是提出一種用于磁控管濺射刻蝕的設(shè)備，其抑制等離子體的燒掉。本實(shí)用新型的特征在于，暗場屏蔽（1）的至少一部分可運(yùn)動(dòng)，使得可調(diào)節(jié)襯底距離（8）。專利說明具有陽極殼體...
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