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技術(shù)編號：3296868

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本發(fā)明公開了一種激光化學(xué)氣相沉積裝置，包括沉積腔以及設(shè)于沉積腔內(nèi)的基板座，基板座上設(shè)有基板，基板座上方設(shè)有噴頭，噴頭通過管道分別輸入載流氣和原料氣，沉積腔下部設(shè)有泵，所述的沉積腔上部設(shè)有第一光學(xué)窗口，第一光學(xué)窗口外設(shè)有用于調(diào)整激光光斑能量分布與光斑大小的光學(xué)擴束系統(tǒng)，光學(xué)擴束系統(tǒng)通過光纖連接連續(xù)激光器；本發(fā)明將連續(xù)激光引入CVD的沉積腔體，直接照射基板表面，以加快材料生長速度，連續(xù)激光由激光器射出后，經(jīng)光學(xué)擴束系統(tǒng)整形成具有能量超高斯分布的光斑，直接以激光...
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