技術(shù)編號:3292307
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。,本發(fā)明特征是,將4#EB的槍掃描軌跡設(shè)計(jì)為采用“兩端設(shè)點(diǎn)”的方法,將原來在溢流側(cè)的兩個(gè)點(diǎn)分散到兩端,并改變圖形,將兩個(gè)都改成縱向的橢圓狀,使它們的能量完全覆蓋兩個(gè)窄面,每個(gè)圖形的能量控制在4#槍的8%—11%之間。本發(fā)明可以消除這些缺陷使兩個(gè)窄面都能夠和大面一樣平整光滑,減少銑床切削量及人工修磨量,從而提高成材率。專利說明[0001]本發(fā)明屬EB爐真空熔煉方法。背景技術(shù)[0002]在EB爐真空熔煉純鈦的過程當(dāng)中,由于冷卻水的作用,錠塊的兩個(gè)窄面的冷卻速度...
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