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技術(shù)編號(hào)：3281576

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本發(fā)明涉及晶片研磨，特別是指一種利用磁場進(jìn)行加載的晶片研磨方法及裝置。背景技術(shù)化學(xué)機(jī)械研磨(CMP, Chemical Mechanical Polishing)通過磨粒-工件-加工環(huán)境之間的機(jī)械、化學(xué)作用，實(shí)現(xiàn)工件材料的微量去除，能獲得超光滑、少損傷的加工表面；力口工軌跡呈現(xiàn)多方向性，有利于加工表面的均勻一致性。而且CMP是目前唯一的可以提供在整個(gè)圓硅晶片上全面平坦化的工藝技術(shù)，可在獲得超光滑表面的同時(shí)，保證硅片的全局平面度。 化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的基本組成...
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