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技術編號：3272495

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一種噴淋頭氣體導流裝置[0001]本實用新型涉及一種噴淋頭的導流裝置，具體涉及一種用于噴淋頭內(nèi)部氣體擴散通道內(nèi)的導流裝置。背景技術[0002]MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition)設備，即金屬有機物化學氣相沉積設備，在半導體產(chǎn)業(yè)尤其是在LED產(chǎn)業(yè)中具有不可替代性的作用，是特別關鍵的設備。該設備集流體力學、熱力傳導、系統(tǒng)集成控制、化合物生長等各學科于一體，是一種高科技、新技術高度集中的設備；是突破產(chǎn)業(yè)發(fā)...
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