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技術(shù)編號：3268989

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本實用新型涉及真空鍍膜，尤其是磁控濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射靶。背景技術(shù)隨后出現(xiàn)有物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，主要是在真空環(huán)境下進(jìn)行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜，近十年來發(fā)展相當(dāng)快，已經(jīng)成為當(dāng)今最先進(jìn)的表面處理方式之一。真空鍍膜生產(chǎn)是實現(xiàn)膜層附著在工件表面，以獲得需要的工件表面特性。真空濺射鍍膜是利用靶材發(fā)生濺射，使濺射物附著在工件表 面形成膜層，即達(dá)到鍍膜；磁控濺射鍍膜機(jī)是常見的真空濺射鍍膜設(shè)備，然而，由于其上設(shè)置...
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