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技術(shù)編號(hào)：3264252

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本發(fā)明涉及的是一種薄膜制備方法，特別是一種，用于材料制備。背景技術(shù) 鎳鈦鈀系列形狀記憶合金薄膜是100℃～200℃高溫微驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的首選材料，利用合金靶材磁控濺射法可在玻璃、硅片等基片上沉積形成TiNiPd薄膜。但需要將薄膜從基片上剝離并加工才能獲得可用于進(jìn)行拉伸性能測(cè)試、形狀記憶彎曲試驗(yàn)以及微驅(qū)動(dòng)器件制作所需的細(xì)條或其它形狀自由薄膜。經(jīng)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)的檢索發(fā)現(xiàn)，T.Sawaguchi等在《Materials Science andEngineerin...
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