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技術(shù)編號(hào)：3251179

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本申請(qǐng)涉及用于在襯底上淀積材料的淀積系統(tǒng)。背景技術(shù) 在微制造技術(shù)中，物理氣相淀積(PVD)是一種普通工藝。參照?qǐng)D1A和1B，淀積系統(tǒng)100包括處理室110、能夠保持工件130的工件支架(workpiece holder)120、靶150和磁控管濺射源160。靶150可以包括要由磁控管濺射源160濺射并淀積在工件130上的材料。在淀積期間工件支架120和工件130在處理室110中一般是固定的。磁控管源設(shè)置在每一個(gè)靶的附近。靶由內(nèi)部包括冷卻系統(tǒng)的支承板(bac...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。

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