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技術(shù)編號(hào)：3211051

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本發(fā)明屬于，具體涉及一種。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，涉及半導(dǎo)體器件外延生長新型襯底結(jié)構(gòu)的制備技術(shù)。背景技術(shù)由于常規(guī)襯底(Si、藍(lán)寶石等)與GaN外延層有不同的晶格失配和熱膨脹系數(shù)，生長后在外延層會(huì)產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。在某些領(lǐng)域，外延層中的應(yīng)力場不同程度地影響或者制約著半導(dǎo)體器件的性能。例如，發(fā)光二極管(LED)、場效應(yīng)管(TFT)等。異質(zhì)外延的應(yīng)力場成為半導(dǎo)體領(lǐng)域的困擾問題之一。目前，科學(xué)研究者通過不同的途徑進(jìn)行應(yīng)力釋放，也 取得了突破性的進(jìn)展，在某些領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了商...
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