技術(shù)編號(hào):2965022
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種真空涂層形成裝置,用于在一基底上形成由電絕緣材料制成的薄膜涂層。作為一種用于在一基底上形成一由導(dǎo)電材料或電絕緣材料構(gòu)成一薄膜涂層的真空涂層形成裝置,通常已知有如圖20所示的一種離子涂覆裝置和如圖21所示的一種等離子加強(qiáng)型CVD(化學(xué)氣相淀積)裝置。在圖20所示的離子涂覆裝置中,由一壓力梯度型等離子槍11(下文中稱為等離子槍)在一真空腔室12中產(chǎn)生等離子,從而通過(guò)氣相淀積而在置于真空腔室12中的一基底13上形成一薄膜涂層。更詳細(xì)地說(shuō),等離子槍1...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。