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真空涂層形成裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2965022

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本發(fā)明涉及一種真空涂層形成裝置,用于在一基底上形成由電絕緣材料制成的薄膜涂層。作為一種用于在一基底上形成一由導(dǎo)電材料或電絕緣材料構(gòu)成一薄膜涂層的真空涂層形成裝置,通常已知有如圖20所示的一種離子涂覆裝置和如圖21所示的一種等離子加強(qiáng)型CVD(化學(xué)氣相淀積)裝置。在圖20所示的離子涂覆裝置中,由一壓力梯度型等離子槍11(下文中稱為等離子槍)在一真空腔室12中產(chǎn)生等離子,從而通過(guò)氣相淀積而在置于真空腔室12中的一基底13上形成一薄膜涂層。更詳細(xì)地說(shuō),等離子槍1...
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