技術編號：2947026
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光學真空鍍膜機(離子束輔助沉積設備)、離子束濺射或離子束刻蝕設備中的離子束發(fā)射源，特別涉及一種具有超大離子束發(fā)散角的離子源。背景技術在光學薄膜領域，離子束輔助沉積(IBAD)是一種將薄膜沉積與離子轟擊融為一體的光學表面鍍膜技術，通常是在高真空中利用荷能離子轟擊正在沉積的薄膜，從而獲得具有特殊效果的膜層。離子束輔助沉積工藝的主要過程是在鍍膜前先用一定能量的離子束轟擊基底，以凈化表面，使表面污染的碳氫化合物分解除去，同時使基底溫度升高，提供表面活化以...
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