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用于最小化等離子體處理室內(nèi)的電弧的裝置和方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2909159

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本發(fā)明涉及用于處理基片的裝置和方法,這些基片諸如用于IC制造的半導(dǎo)體基片或用于扁平板顯示器制造的玻璃板。更特別地,本發(fā)明涉及用于在處理過(guò)程中最小化與等離子體處理室相關(guān)的面向等離子體元件與等離子體處理室內(nèi)的等離子體和/或另一面向等離子體元件之間的電弧的改進(jìn)的方法和裝置。背景技術(shù) 等離子體處理系統(tǒng)已經(jīng)出現(xiàn)一段時(shí)間了。這些年來(lái),利用感應(yīng)耦合等離子體源、電子回旋加速器諧振(electron cyclotronresonance,ECR)源、電容源等的等離子體處理系...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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