技術(shù)編號：2904292
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的總體領(lǐng)域涉及濺射技術(shù)，并且具體而言，涉及一種用于多磁控管濺射系統(tǒng)的獨特電源裝置。背景技術(shù)濺射技術(shù)在本領(lǐng)域中是公知的并且用于薄層的形成。該技術(shù)用于例如半導(dǎo)體制造和硬盤制造。Fairbairn等人的美國專利6，919，001中公開了一種利用用于硬盤制造的濺射室的系統(tǒng)的示例。在該系統(tǒng)中，以靶的形式提供待沉積到襯底上的材料，并且使用磁控管來向襯底上濺射靶材。在一些系統(tǒng)中，襯底是移動的，而在其它的系統(tǒng)中襯底是固定的。圖1示出了使用磁控管的常規(guī)濺射室。在圖1中...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。