技術(shù)編號：2868249
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種等離子體暴露面有原位形成保護(hù)層的等離子體處理室部件，具體而言，一種等離子體處理室的部件，所述部件在其等離子體暴露表面上具有液體保護(hù)層。所述液體保護(hù)層可以通過供應(yīng)液體到液體通道并且經(jīng)由所述部件中的液體供給通道輸送所述液體來被補(bǔ)充。所述部件可以是邊緣環(huán)，所述邊緣環(huán)包圍被支撐在所述等離子體處理設(shè)備中的襯底支架上的半導(dǎo)體襯底，其中等離子體產(chǎn)生并用于處理所述半導(dǎo)體襯底?？商娲?，所述液體保護(hù)層可以被固化或充分冷卻以形成固體保護(hù)層。專利說明等離子體暴露面...
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