技術(shù)編號：2855813
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供一種離子注入裝置，確保相對于離子注入裝置的作業(yè)性且抑制設(shè)置面積。本發(fā)明的離子注入裝置具備對由離子源生成的離子束進行加速的多個單元、及對掃描束進行調(diào)整而注入到晶片中的多個單元，該離子注入裝置通過將對掃描束進行調(diào)整的多個單元的長度構(gòu)成為與對離子源及離子束進行加速的多個單元大致相同的長度的長直線部，構(gòu)成具有相對置的長直線部的水平U字狀的折回型射束線。專利說明離子注入裝置[0001]本申請主張基于2012年12月4日申請的日本專利申請第2012-2658...
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