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用于質(zhì)譜儀在高壓時的改進(jìn)性能的射頻(rf)離子引導(dǎo)器的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2852497

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描述在質(zhì)譜儀(MS)系統(tǒng)中使用的離子引導(dǎo)器(200)。所述離子引導(dǎo)器(200)被配置為提供反射電動場和直流(I或靜態(tài))電場,以提供對于相當(dāng)大的質(zhì)量范圍在空間上更禁閉的離子射束。在MS系統(tǒng)(100)的離子源(101)與第一級真空腔室(805)之間提供一些離子引導(dǎo)器(200)。專利說明用于質(zhì)譜儀在高壓時的改進(jìn)性能的射頻(RF)離子引導(dǎo)器[0001]相關(guān)申請的交叉引用[0002]本申請要求于2012年I月6日提交的題為“Rad1 Frequency (RF) 1...
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