技術(shù)編號：2818485
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻裝置的，具體涉及光刻曝光劑量控制裝置及其方法。背景技術(shù)光刻工藝技術(shù)是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中關(guān)鍵的 一個工藝環(huán)節(jié)，在光刻過程中， 投影到硅片表面的光刻劑量精度成為影響產(chǎn)品是否合格的關(guān)鍵因素之一。目前 光刻生產(chǎn)用到的準(zhǔn)分子激光器發(fā)射出的脈沖能量波動較大，如不加以控制，曝 光劑量精度達(dá)不到生產(chǎn)要求，最終會導(dǎo)致產(chǎn)品成為廢品。各光刻機(jī)廠家提供了 多種曝光劑量控制方法以保證劑量精度，盡量保證用戶使用高曝光劑量精度的產(chǎn)品o一種現(xiàn)有技術(shù)的情況(參見劉世元、吳小健于...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。