技術(shù)編號(hào)：2818391
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種掩模版定位機(jī)構(gòu)，特別涉及一種光刻技術(shù)中的掩模版定位 機(jī)構(gòu)。背景技術(shù)近代半導(dǎo)體科技發(fā)展迅速，其中光學(xué)光刻技術(shù)扮演了重要的角色。光學(xué)光 刻技術(shù)在半導(dǎo)體的應(yīng)用上，是將設(shè)計(jì)好的線路制作成具有特定形狀可透光的掩 模，利用曝光原理，使光源通過掩模投影至硅晶片上，可曝光顯示特定的圖案。光刻設(shè)備已經(jīng)能夠在晶片上形成越來越小的圖形，而在光刻設(shè)備中，掩模 版定位機(jī)構(gòu)則是對光刻過程中掩模版操作的重要裝置。在超大規(guī)模集成電路光 學(xué)光刻中，決定微細(xì)圖形最細(xì)線寬的主要因...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。