技術(shù)編號：2814605
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體光刻顯影，尤其涉及一種掩膜版。 背景技術(shù)液晶顯示器、集成電路等半導(dǎo)體器件的制程需要用到掩膜版，以在玻璃基 板或半導(dǎo)體基片上蝕刻出用戶需要的圖形。圖1示出了掩膜版的制作流程，首 先用計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行圖形制作，并將圖形轉(zhuǎn)換為曝光設(shè)備可識別的數(shù)據(jù)， 然后曝光設(shè)備在涂覆有感光膠的掩膜版上曝光成與設(shè)計(jì)要求一致的圖形，最后 對掩膜版進(jìn)行顯影處理，使掩膜版上的感光膠呈現(xiàn)出用戶需要的圖形。掩膜版在顯影過程中，由于工藝條件的差異性，或者顯影手法的熟練程...
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