技術(shù)編號：2813261
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光刻機，特別是一種光刻機投影物鏡偶像差原位檢測系統(tǒng)。技術(shù)背景在極大規(guī)模集成電路制造領(lǐng)域，用于光刻工藝的歩進掃描投影光刻機是公知的。 投影物鏡系統(tǒng)是歩進掃描投影光刻機中最重要的分系統(tǒng)之一。投影物鏡的波像差使 光刻機的光刻成像質(zhì)量惡化，并造成光刻工藝容限的減小。波像差可以分為奇像差 和偶像差。其中，奇像差主要包括彗差和三波差，偶像差主要包括球差和像散。投 影物鏡的彗差使掩模上的圖形曝光到硅片后發(fā)生成像位置偏移，該成像位置偏移量 與圖形尺寸和照明條...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。