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基片顯影方法及實(shí)施該方法的裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2811624

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一般地,本發(fā)明具體實(shí)施方式涉及基片顯影方法,和實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。 更具體地,這些具體實(shí)施方式涉及通過將顯影液供給至基片上,使基片顯影的 方法,及實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體或平板顯示器加工工藝中,可通過光刻法在諸如半導(dǎo)體晶片和玻 璃基片之類的基片上形成電路圖形。光刻技術(shù)包括涂層處理,將光致抗蝕劑組合物施加至基片上以在基片上 形成光致抗蝕劑膜;烘烤處理,使光致抗蝕劑膜硬化;曝光處理,將掩膜的電 路圖樣轉(zhuǎn)錄到光致抗蝕劑膜上;以及顯影處理,使用顯影液在基片...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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