技術(shù)編號：2809336
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備， 一種控制方法以及一種標(biāo)定方法。技術(shù)背景光刻設(shè)備是將期望的圖案應(yīng)用到襯底上的機(jī)器， 一般是應(yīng)用到襯底的目標(biāo)部分上。光亥ij設(shè)備可以用在例如集成電路(ICs)制造中。這時(shí)，4頓可選擇性地 稱為掩?；蜓趍ife (reticle)的圖案形成裝置，產(chǎn)生要在IC的單個(gè)層上形成的電 路圖案。該圖案可以轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括一部分、—個(gè)或多個(gè)管芯)上。典型地，圖案的轉(zhuǎn)移^iai在襯底上mi共的一層輻射敏感材料(抗蝕劑)上...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。