技術(shù)編號(hào):2808139
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種曝光系統(tǒng),尤其是涉及一種具有光學(xué)濾波模塊的曝光系統(tǒng),以改善臨界尺寸均勻度(critical dimension uniformity)。 背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展,集成電路的尺寸也越來越小。在集成電路 的制造過程中,最關(guān)鍵的技術(shù)莫過于所謂的光刻制作工藝(lithography process),其肩負(fù)著將光掩模上圖案精確地轉(zhuǎn)移至晶片上不同元件層的重大 責(zé)任。當(dāng)半導(dǎo)體元件的尺寸不斷的縮小,以場效晶體管為例,其通道長度、 接面深度和極極隔...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。