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一種制備鏤空的聚酰亞胺蒸發(fā)掩模漏版的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2808074

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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體學(xué)中的微細(xì)加工領(lǐng)域,涉及一種用于半導(dǎo)體器件制 備的蒸發(fā)掩模版的制備技術(shù),特別是一種制備鏤空的聚酰亞胺蒸發(fā)掩模漏 版的方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件制備中不可避免地要對(duì)各個(gè)功能材料層進(jìn)行圖形化。在傳 統(tǒng)硅工藝中常采用光刻的方法來(lái)進(jìn)行圖形定義。但在有機(jī)半導(dǎo)體器件制備 中,由于有機(jī)材料對(duì)光刻膠以及顯影液的敏感性,使得光刻定義圖形的方法受到了極大的限制。因此采用掩模漏版(shadow mask)進(jìn)行圖形化獲得 了廣泛地使用。目前使用最為廣泛的是金屬漏版,...
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