技術編號：2795015
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及納米尺度元件制作，尤其涉及。背景技術眾所周知，隨著納米加工領域的不斷發(fā)展，多臺階光柵的需求越來越大，而目前一般制作的都是采用多次光刻，多次刻蝕技術形成的2η臺階光柵，而多次光刻的臺階不均勻，造成光刻膠厚度不均勻，以及精度上難以對準問題造成了其厚度和臺階寬度也難以精確，并且其臺階數(shù)目難以任意改變。發(fā)明內(nèi)容(一)要解決的技術問題針對普通多臺階光柵的臺階不能任意性問題，本發(fā)明的主要目的在于提供，以利用電子束光刻膠對劑量的敏感性，以及抗刻蝕性能，制作任意...
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