技術(shù)編號(hào)：2794988
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明 涉及直寫式光刻機(jī)曝光控制領(lǐng)域，具體為。背景技術(shù)半導(dǎo)體行業(yè)使用的傳統(tǒng)分步重復(fù)式或分步掃描式光刻工具，將分劃板的特征構(gòu)圖在各個(gè)場(chǎng)一次性的投影或掃描到晶片上，一次曝光或掃描一個(gè)場(chǎng)。然后通過移動(dòng)晶片來對(duì)下一個(gè)場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)性的曝光過程。傳統(tǒng)的光刻系統(tǒng)通過重復(fù)性曝光或掃描過程，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)出額的精確特征構(gòu)圖的印刷。為了在晶片上制造器件，需要多個(gè)分劃板。由于特征尺寸的減小以及對(duì)于較小特征尺寸的精確公差需求的原因，這些分劃板對(duì)于生產(chǎn)而言成本很高，耗時(shí)很長(zhǎng)，從而使利用分劃...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。